鄭州科探新產(chǎn)品發(fā)布-開(kāi)斷放電實(shí)驗裝置這款高壓開(kāi)關(guān)斷路器滅弧實(shí)驗裝置采用不銹鋼腔體設計，確保了設備的穩定性和耐用性。其最大允許壓力達到了0.3MPa，同時(shí)能夠承受高達50KV的最大電壓，足以滿(mǎn)足高壓電路斷開(kāi)實(shí)驗的需求。該實(shí)驗裝置具備可更換的電極設計，使得用戶(hù)能夠根據不同實(shí)驗需求選擇合適的電極，實(shí)現了對實(shí)驗參數的靈活調整。此外，配備了電控推拉桿，可控的斷開(kāi)速度，使得實(shí)驗過(guò)程更加精準和可控。推桿行程為140mm，為用戶(hù)提供了更加多樣化的實(shí)驗選擇。該裝置還配備了前后透明窗口，方便用戶(hù)...

一英寸探針臺重大升級近期公司推出新品一英寸探針臺，針對老產(chǎn)品持續優(yōu)化1、滑塊精度提高，控制更加精確，操作方便2、顯微鏡支架升級為一體，使用面包板，使得更加牢固，3、增加316球閥進(jìn)氣口，耐腐蝕，不漏氣4、溫度提高了pid參數，精度從±0.1升級到±0.5，更度更高，測試結果更加準確5、探針升級，絕緣優(yōu)化，性能穩定,探針間不易發(fā)生短路,提高了PCB測試的可靠性

半導體制冷臺的工作過(guò)程可以分為四個(gè)主要階段：起始階段、正向運行階段、穩態(tài)工作階段和反向運行階段。在起始階段，冷端的溫度較高，熱端的溫度較低。然而，由于這兩端之間的溫度差異不足以產(chǎn)生足夠的電壓差，導致無(wú)法維持制冷效果。因此，此階段需要其他制冷設備或方法進(jìn)行預冷。在正向運行階段，冷端的溫度下降，熱端的溫度上升，電流流經(jīng)熱電堆，產(chǎn)生一定的制冷效果。溫度差異逐漸加大。在穩態(tài)工作階段，冷端達到了所需的溫度，并且熱端的溫度也相應達到了一定的高溫，設備可以長(cháng)時(shí)間維持制冷狀態(tài)。在反向運行階段...

近期我司新推出了顯微鏡支架產(chǎn)品，設計簡(jiǎn)單、功能齊全，是一種降低成本的新型支架。平滑的水平移動(dòng)非常適合大范圍觀(guān)察。作為機器或設備的光學(xué)設定規，顯微鏡可以從磁性固定位置水平滑動(dòng)以進(jìn)行觀(guān)察。此外，一旦觀(guān)看完畢，該裝置可以輕松返回到原來(lái)的位置，不妨礙工作。定位銷(xiāo)和限位器功能考慮了重復運動(dòng)的再現性。這是一個(gè)方便使用的支架探針臺顯微鏡支架是探針臺的一部分，它支撐并固定顯微鏡，使顯微鏡能夠進(jìn)行精密操作。該支架有以下主要功能：穩定性：為顯微鏡提供穩定的支撐，確保在測試過(guò)程中顯微鏡不會(huì )發(fā)生移動(dòng)...

半導體制冷臺(也稱(chēng)為熱電制冷臺)是一種基于熱電效應的制冷設備，它通過(guò)將電能轉化為熱能和冷能，實(shí)現制冷效果。當一個(gè)電流經(jīng)過(guò)兩個(gè)不同材料的接觸面時(shí)，產(chǎn)生的熱流量將會(huì )引起溫度差異，從而產(chǎn)生熱電效應。這被稱(chēng)為Seebeck效應。Seebeck效應的基本原理是，在兩個(gè)不同材料交界處，電子會(huì )從能級較高的材料流向能級較低的材料，從而產(chǎn)生電壓差。一般由三個(gè)主要部分組成：冷端、熱端和電源。冷端由多個(gè)P型和N型的半導體材料連接而成，形成了一個(gè)熱電堆。當電源連接到熱電堆時(shí)，電流通過(guò)堆，通過(guò)Seeb...

小型蒸鍍儀在材料科學(xué)和工程領(lǐng)域中發(fā)揮著(zhù)重要作用，廣泛應用于微電子、光電子、材料科學(xué)等領(lǐng)域。熱蒸發(fā)是一種將固態(tài)材料迅速加熱并使其轉變?yōu)檎羝倪^(guò)程。固態(tài)材料(如金屬或非金屬)被放置在加熱源中，當加熱源加熱到一定溫度時(shí)，該材料開(kāi)始蒸發(fā)。蒸發(fā)的材料蒸汽在真空環(huán)境中自由擴散，并沉積到待鍍物表面形成薄膜。小型蒸鍍儀常見(jiàn)的應用領(lǐng)域：1.微電子工業(yè)：在微電子工業(yè)中用于制備集成電路、半導體芯片和顯示器件等。通過(guò)在基板上沉積金屬薄膜或半導體材料，可以實(shí)現電路的連接和器件性能的改善。2.光電子工業(yè)...

【新品發(fā)布】——突破極限，1000°高溫探針臺震撼上市！我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高溫探針臺。這款產(chǎn)品是我們經(jīng)過(guò)不懈努力和持續創(chuàng )新的成果，將為您在高溫實(shí)驗領(lǐng)域帶來(lái)了全新的體驗。1000度高溫真空探針臺（High-TemperatureVacuumProbeStation）主要應用于半導體、材料科學(xué)、納米技術(shù)、光電子、薄膜技術(shù)等領(lǐng)域，具有以下用途：1.半導體器件測試與表征：用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2.材料性能表征：研究和測試...

小型濺射儀是種常見(jiàn)的表面處理設備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質(zhì)。主要由濺射靶、工作室、真空系統、控制系統等組成。其中關(guān)鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質(zhì)的物質(zhì)組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個(gè)真空環(huán)境，用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過(guò)程的干擾。在工作時(shí)，首先需要將工作室抽成高真空狀態(tài)。通過(guò)真空泵抽取工作室內的氣體，減少對離子束的干擾。接下來(lái)，將濺射靶放置在工作室內，并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對方向。然后，靶與工作室中...